ASML:从飞利浦弃儿到光刻之王
@经济观察报:
陈永伟/文 近日,荷兰光刻机巨头ASML宣布:其联席总裁兼首席执行官皮特·温宁克 (PeterWennink)及联席总裁兼首席技术官马丁·范登布林克(Mar-tinvandenBrink)将于 2024年4月24日退休。现任首席商务官兼管理委员会成员克里斯托弗·富凯(ChristopheFouquet)将可能会成为公司的下一任总裁兼 CEO——当然,这还需要经过2024年4月24日的年度股东大会的最终批准。 温宁克和范登布林克从2013年接任ASML的总裁,至今已经十年。这十年,是ASML成立以来最辉煌的十年。在这个时间点上,回顾一下这家公司从几近破产的小公司成长为业界巨头的过程,是非常有意义的。 光刻往事 要讲ASML的故事,我们有必要先花点篇幅来介绍一些与光刻技术及光刻机相关的背景知识。 严格来说,我们将这项技术称为“光刻”是有误导性的。它并不是像很多人想象的那样用激光在硅片上刻图,而更像是一种照相曝光和印刷技术的组合。 光刻的英文是Photolithography,从构词上容易看出,这个词脱胎于Lithography,即“石版印刷术”。 “石版印刷术”的要害之处在于用化学的方法在要画的图案上涂上油墨,而让其他地方保持空白。与之类似的,光刻的要害则在于用化学的方法保留硅片中需要的部分,而去掉其他的部分。所不同的是,在“石版印刷术”中,人们用的是油脂、树胶和水来实现这一点,而在光刻过程中,人们则是通过光和光刻胶来实现。 大家知道,芯片的制作过程很大程度上是一个在硅片上雕刻出复杂电路的过程。仿照石版印刷的思路,可以先在硅片上画上想要的图案,并将它保留下来。为了达到这一点,我们需要先在硅片上涂上一层含有光致敏剂的光刻胶。然后再借用光学技术将带电路图的掩膜(mask)按比例缩小后投射到硅片上。在光照到的地方,光刻胶就会产生变化,形成一道保护层。在经过曝光之后,就可以用含氯或氟的