俄罗斯宣布自研EUV光刻机:比ASML更便宜、更容易制造!
快科技12月19日消息,据报道,俄罗斯已公布自主开发EUV 光刻机的路线图,目标是比ASML的光刻机更便宜、更容易制造。据悉,俄罗斯的自主光刻机采用11.2nm的激光光源,而非ASML标准的13.5nm。该项目计划由俄罗斯科学院微结构物理研究所的Nikolay Chkhalo领导,目的是制造性能具竞争力且具成本优势的EUV光刻机,以对抗ASML的设备。尽管该光刻机产量仅为ASML设备的37%,因为其光源功率仅3.6千瓦,但性能足以应付小规模芯片生产需求。