【转】光刻机终极十问:中国有没有必要举全国之力,去造一台光刻机?
@14亿少女的梦:
作者: 腾讯新闻知识官、 AMD 高级数字芯片设计工程师 温戈 侵删。 芯片之于光刻机,就如同人和大脑的关系,但纵览几十年中国乃至全球球光刻机产业的发展却表现的差强人意,呈现出了唯有荷兰ASML“一家独大”的局面。 3月初,中芯国际迎来了久违的好消息:中芯国际与荷兰光刻机公司阿斯麦(以下简称“ASML”)签下大单,订购12亿美元光刻机。 近年来,我国虽然在科技研发上取得了多项重大进步,但在芯片研发和制造领域却亟待突破,特别是在新冠疫情之后,全球新一轮的“芯片荒”来袭造成了产业链对于芯片供不应求的问题,我国想要推进独立自主的芯片研发,光刻机的生产制造就显得尤为重要。 芯片虽小,制造难度却很大,而这一过程中一个关键的工艺机器——光刻机的制造成为了一大难题。芯片之于光刻机,就如同人和大脑的关系,但纵览几十年中国乃至全球球光刻机产业的发展却表现的差强人意,呈现出了唯有荷兰ASML“一家独大”的局面。 我们不禁也对此有很多疑问:为何中国乃至全球对于制造光刻机的难度如此之大?ASML公司是如何做到光刻机产业中“全球霸主”的地位?为何该公司一台光刻机的售价达到了数亿美元?继3月初的中国“芯痛”终极十问:我们能造原子弹,却造不出一枚小芯片?之后,该文章作者再次围绕光刻机的十个重要问题为您解读。(关于光刻机,你还有哪些疑问,欢迎在底部评论区添加话题#提问专家#并留言) (ASML EUV光刻机TWINSCAN NXE3400B,来源:ASML官网) Q1:光刻机是做什么的?是在造芯的哪个过程发挥作用? 光刻机(英文“Mask Aligner”) ,又名掩模对准曝光机,是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。芯片的制造流程极其复杂,我们可以概括为几大步骤:硅片的制备-->外延工艺-->热氧化-->扩散掺杂-->离子注入-->薄膜制备-->光刻-->