快科技12月19日消息,据报道,俄罗斯已公布自主开发EUV(极紫外光刻)光刻机的路线图,目标是比ASML的光刻机更便宜、更容易制造。据悉,俄罗斯的自主光刻机采用11.2nm的激光光源,而非ASML标准的13.5nm。这种波长将与现有的EUV设备不兼容,需要俄罗斯开发自己的光刻生态系统,这可能需要十年或更长时间。包括电子设计自动化(EDA)工具也需要进行更新。虽然现有EDA工具仍可完成逻辑合成、布局...
网页链接快科技2024-12-19
快科技12月19日消息,据报道,俄罗斯已公布自主开发EUV(极紫外光刻)光刻机的路线图,目标是比ASML的光刻机更便宜、更容易制造。据悉,俄罗斯的自主光刻机采用11.2nm的激光光源,而非ASML标准的13.5nm。这种波长将与现有的EUV设备不兼容,需要俄罗斯开发自己的光刻生态系统,这可能需要十年或更长时间。包括电子设计自动化(EDA)工具也需要进行更新。虽然现有EDA工具仍可完成逻辑合成、布局...
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