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阿斯麦盘前大涨5%,主因中国国产光刻机技术实现重大突破。消息显示,中国自主研发的芯片制造设备分辨率已达65纳米,技术水平较此前大幅提升,正逐步缩小与国际龙头阿斯麦的差距。

作为全球主要的光刻机供应商,如果中国企业能够掌握核心制程技术并形成规模效应,必将对阿斯麦在华市场带来巨大冲击。投资者预期这一技术突破将推动中国芯片制造设备本土化进程,从而对阿斯麦造成竞争压力。

不过,尽管技术创新取得进展,但中国在高端芯片制造设备领域仍落后于国际水平,且与国际龙头差距仍存。市场人士指出,中国光刻机研发虽获突破但仍需一段时间来完全实现进口替代。阿斯麦作为全球光刻机龙头,在高端制程上短期内难被取代。