消息称三星削减新型 EUV 采购量,与 ASML 合作研发案生变
韩国媒体消息,三星电子(Samsung Electronics)削减了极紫外光(EUV)微影采购计划,跟荷兰半导体设备业龙头ASML(ASML Holding N.V.)合作研发中心进度卡关。
据韩媒Business Korea 8月20日引述未具名消息人士报导,2023年12月12日当天,韩国总统尹锡悦(Yoon Suk Yeol)访问ASML荷兰总部,陪同的人士包括荷兰国王Willem-Alexander、三星会长李在熔(Lee Jae-yong)、SK集团董事长崔泰源(Chey Tae-won)和ASML执行长Peter Wennink。三星、ASML也当场签定备忘录(MOU),准备在韩国都会区共同兴建EUV研发中心。然而,过了短短半年,两家公司的合作案传出生变。
据报导,三星7月稍早在会议上时通知ASML,决定削减次世代High-NA EUV(高数值孔径极紫外光)微影设备的采购量;两家公司应该很快就会着手修改相关合约。
三星原本规划,未来十年采购的ASML次世代机台(分别是“EXE:5200”、“EXE:5400”及“EXE:5600”)将超过三台。然而,三星如今只决定导入EXE:5200,至于是否导入后续版本则会重新考虑。三星是在任命全永铉(Young Hyun Jun)接任装置解决方案(DS)事业群负责人,重新检视进行中的专案和投资计划后,做出了上述决定。
业界消息人士表示,研发中心的京畿道华城市(Hwaseong)土地采购案及设计与核准程序原本已在进行中,但由于三星决定削减设备采购量,相关程序已完全停摆。ASML、三星合作的研发中心是否要更改地点,甚或直接取消,将在未来讨论后决定。
不过,一名三星高层依旧表示,导入High-NA EUV微影设备的规划没有变动,两家公司合作的研发中心也会在最合适的地点设立。
一位业界人士提到:如果两家公司能遵守原订合约,三星不仅能比竞争对手更早引进先进EUV设备,还有机会近距离观察先进EUV技术的开发过程。如果计划有变,恐丧失这些机会。
来源:科技新报
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