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High NA光刻，更多细节披露

半导体行业观察10-09 09:28

如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~来源：内容编译自semiwiki，谢谢。在今年的SPIE 大会上，ASML 新任首席执行官 Christophe Fouquet 发表了精彩的开幕/主题演讲，重点关注High NA EUV。显然，High NA EUV 不太可能像最初的 EUV 那样出现延迟。我们应该期待它相对快速地推出和采用，因为高 NA 更像是 EUV 的“升级”，而不是一个全新的产品...

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发表了精彩的开幕/主题演讲，重点关注High NA EUV。显然，High NA EUV 不太可能像最初的 EUV 那样出现延迟。我们应该期待它相对快速地推出和采用，因为高 NA 更像是 EUV 的“升级”，而不是一个全新的产品...</p>\n\n<a href=\"http://gu.qq.com/resources/shy/news/detail-v2/index.html#/?id=nesSN2024100909300995996e12&s=b\">网页链接</a>\n\n</div>\n\n\n</article>\n</div>\n</body>\n</html>\n","isBrief":false,"type":0,"news_type":1,"symbol":"LU2063271972.USD","symbol_name":"富兰克林创新领域基金","start_time":0,"source_url":"http://gu.qq.com/resources/shy/news/detail-v2/index.html#/?id=nesSN2024100909300995996e12&s=b","article_id":"2474725837","we_media_id":null,"thumbnails":[],"rights":{"source":"tencent","url":"http://gu.qq.com/resources/shy/news/detail-v2/index.html#/?id=nesSN2024100909300995996e12&s=b","rn_cache_url":null,"customStyle":"body{padding-top:10px;}#news_title{font-weight:bold;#titleStyle#;}#news_description span{font-size:12px;#descriptionStyle#;}.footer-note{#statement#}","selectors":".mod-LoadTzbdNews, body","filters":".relate-stock, .hot-list, .recom-box, 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Mark Phillips 紧随 Christophe Fouquet 之后继续讨论 High NA 主题。英特尔目前在波特兰已安装/运行两个 High NA 系统。Mark 展示了两个系统的一些非常漂亮的图像，这些图像表明High NA 比标准 EUV 带来的改进可能比预期的要好。由于已经积累了经验，第二个系统的安装速度比第一个更快。值得注意的是，High NA 所需的所有基础设施都已到位并开始运行。High NA 的光化掩模检查已开始运行。因此，无需进行太多辅助支持工作即可将其投入生产。有人还向 Mark 询问了 CAR（化学增强型光刻胶）与金属氧化物光刻胶的比较，Mark 说 CAR 目前还不错，但未来某个时候我们可能需要金属氧化物光刻胶。这似乎大大推迟了对金属氧化物光刻胶（如 Lam 的干式光刻胶）的需求，使其更远的未来。这对 JSR 或 Lam 来说都不是好消息。目标插入点是英特尔 14A 工艺，大约需要 3 年时间，这很可能比预期的要快。（在会议上，我们听到的有关High NA 的唯一故障是，将巨大的High NA 工具从拖车上运送到波特兰的工厂很困难，因为拖车在极端的重量负荷下弯曲了！）这种近乎完美的安装/启动对英特尔来说是个好消息，因为这是他们执行计划所需的“胜利”，特别是在最初的 EUV 推出速度缓慢之后.与最初迅速采用 EUV 相比，台积电以成本为由迟迟未采high NA。我们认为，台积电可能在与 ASML 争夺更有利的条件，这有点像一场定位/谈判游戏。我们认为他们不会坚持太久，尤其是如果英特尔开始在high NA 工具方面取得领先地位的话。台积电将不得不屈服并顺从。台积电在英特尔倡导的掩模倍增方面也进展缓慢，但最终也会顺从，因为这对他们来说是免费的性能提升。我们听说 ASML 的 Christophe Fouquet 和英特尔的 Anne Kelleher 在会议开幕前的周日进行了会面......也许是为了谈论他们在 High NA 推出方面的合作关系。我们认为，对于 KLA 及其长期推迟的 Actinic 掩模检查计划而言，即将出现一些好消息，这是非常需要的。我们认为这次会议对于high NA EUV的推出和摩尔定律的整体技术进步显然非常积极。这对英特尔和 ASML 来说显然都是利好消息。这对英特尔来说无疑是好事，因为它需要尽可能多地获得技术优势，而高 NA 可能是该行业目前正在经历的最关键的技术变革。这对 ASML 来说也是利好消息，因为该公司股价一直不稳定且承受压力，很大程度上是由于中国问题，而中国问题掩盖了高北美市场的更大技术进步。在更大的半导体市场上，一切都与人工智能、人工智能和人工智能有关......其他的都不重要。由于一切都围绕人工智能展开，因此后缘仍然较弱。参考链接https://semiwiki.com/semiconductor-services/semiconductor-advisors/349666-spie-monterey-asml-intc-high-na-readiness-bigger-masks-smaller-features/","kind":null,"is_publish_news":true,"is_publish_highlight":false,"is_publish_live":false,"is_publish_wemedia":null,"editions":null,"column":"","sentiment":"1","news_tag":"Product Release","news_rank":0,"symbols":[],"gpt_button":0},"commentList":[],"hasMoreComments":false,"newsSizeData":{"likeSize":0,"commentSize":0,"repostSize":0,"favoriteSize":0,"likeStatus":false,"favoriteStatus":false}}