这是真的高科技产品
美国应用材料展示全新装备 七工艺合一
美国半导体设备公司应用材料日前展示了一款全新的设备,能将7种工艺整合在一起,可用于3nm工艺。芯研所6月20日消息,在半导体工艺延伸到7nm之后,光刻机越来越重要,EUV光刻机现在只有荷兰ASML能生产。
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