（最后一图总结被卡脖子现状）
大家好，我是很帅的狐狸
今天来聊聊
EUV光刻机
上周看到市场在传，说我国突破了被“卡脖子”的EUV光刻机技术。
我研究了下后发现，其实这只是自媒体们在乱发挥，利用了我们被华为手机炒起来的爱国情怀……
哦，游资们也顺势拉了拉几只芯片股。
肯定咱自己国家的科技进步，这没啥问题，但我们也要明白“希望越大失望越大”的道理。
所以我今天打算来聊聊这个消息，看看实际情况是怎样的，顺带给大家梳理一下我们目前还被卡脖子的环节。
Part 1
📰 消息是怎么传出来的？
先说下背景——
光刻机嘛，顾名思义，就是用光在晶圆上进行“雕刻”，“刻”出微型电路，所以在芯片领域是必不可少的。
我们也可以造出光刻机——上海微电子可以造出分辨率90nm的光刻机，据说28nm的也有望突破。
不过，如果你平时比较关注这个话题的话，应该也知道现在美国拉了荷兰卡我们脖子的，主要是7nm的光刻机。
7nm以下的光刻机用的波长更小的是EUV（极紫外线），目前这种光刻机只有荷兰公司ASML才能造得出来。
然后到了周五的时候，有一些股票群开始传了这张图——
后来有人挖到了说，实现的技术是清华2021年在《自然》杂志发表的论文提到的“稳态微聚束”（SSMB）。
也有人用了更容易理解的配图——
根据各个群里流传的说法，这次的技术突破相当于——我们生产了大量的橙子，里头什么大小都有。
这样我们可以把不同大小分别筛出来，给不同的需求用。
作为分析师的第一反应是——
这是2021年就发布的论文，为什么现在才拿来炒作？
我也没发现有什么新进展啊……
随后，我又看到有推波助澜者在传下面这几张配图——
要说明的是，这个配图跟SSMB不是一回事——这个是在怀柔的“高能同步辐射光源”（HEPS）。
我看了下清华的论文综述，确认了这个HEPS跟SSMB不是一个东西——
截图/ 《稳态微聚束加速器光源》（唐传祥等，2022）
表格里的这四类光源都可以产生EUV。
其中，LPP是目前ASML光刻机的主要技术。
而同步辐射（SR）是个很成熟的技术了，不过它的光功率达不到EUV光刻大规模量产的需求。
确切来说，用同步辐射要做到1nm的光刻也OK，就是实在是太贵了……
而SSMB因为有高亮度、高功率的特点，所以用来替代LPP理论上没啥问题。
那么问题就来了——
SSMB能帮我们突破被卡脖子的光刻机技术吗？
Part 2
⚙️ 技术实现了突破？
理论上，SSMB确实可以应用到光刻机上，不过从实验室到产业化还有很远的距离。
我挖了下，清华2021年的时候还在申请要建一个“稳态微聚束极紫外光源研究装置”（申报列为“十四五”国家重大科技基础设施）。
随后在去年12月份，跟雄安新区签了个《河北雄安新区管理委员会、清华大学关于共同支持“稳态微聚束(SSMB)极紫外光源设施”项目的合作意向书》。
最新进展是3月份副校长过去实地考察了下SSMB项目的选址地点。
而即使SSMB加速器光源研究装置建设出来了，也只是造了部“打印机”而已……
确实，我们也可以用这部打印机，用“直接光刻法”，通过移动光源“画”出电路板。
但是如果要量产的话，还是需要“复印机”的，一般用的是“掩模法”。
这里稍微解释下“掩模法”的原理——
相当于先做了个模子，然后让一部分光漏过去。
漏过去的光会再通过一个透镜，缩小成原来大概1/4的大小。
然后这些被缩小的光会射到基板上。
基板上提前上好了光刻胶，光刻胶被光射到的部分经过烘烤、显影后会溶解。
这么处理后，就形成了集成电路。
而咱不单单在光源部分被卡脖子……
“复印机”有三个核心部分：激光光源、物镜系统、工作台。
所以光是在激光光源突破了EUV技术也没用，物镜系统和工作台咱也得跟上才行。
那么问题就来了——
目前咱都有哪些环节被卡？
Part 3
🔐 咱都有哪些环节被卡？
我根据民生证券的研报《光刻机各环节国产化情况》整理了下面的图表，一图胜千言——
需要留意的是，我参考的那份报告是4月下旬出的。
所以过去这几个月也可能会有些变化。
不过我不是一直在这个行业里头的，所以没跟得那么紧。
业内人士知道的话可以留言指正。
还是希望独立思考的人多一些，这样才不会被某些人利用了我们的爱国激情。
一旦我们的激情被消耗光了，那带来的失落感反而会反噬我们。
🤑
“Greed is good.”
“很帅的投资客”的所有内容皆仅以传递知识与金融教育为目的，不构成任何投资建议。一切请以最新文章为准。
精彩评论