台积电 Co-CEO C.C. Wei在财务会议上宣布已开始大规模生产第一代7nm制程(CLN7FF)的苹果A12芯片。这家代工巨头告诉媒体,有十几家客户带着几十款各自设计的芯片,渴求台积电用7nm的技术为他们生产新一代芯片。(不给的话就小拳拳捶你胸口?)
7nm制程对整个晶圆代工业都是一件不得了的大事,对台积电而言,重要性不言而喻。
1. 参数提升巨大。将此7nm技术(CLN7FF)与台积电目前运用最广的16nm制程(CLN16FF+)做对比,前者可以将相同设计的芯片:面积缩小70%,功耗减小60%,性能提升30%。目前,台积电为18位客户做了7nm的流片。2018年底,会有超过50种不同的产品在台积电使用7nm流片。
2. 适用范围更广。台积电的10nm制程(CLN10FF)目前只有一些客户拿来生产不是那么多的移动芯片,仅此而已。相比之下,7nm制程应用广泛得多。台积电期望使用此技术生产CPU,GPU,FPGA,神经网络芯片,加密货币矿机芯片,汽车用芯片,移动芯片等等等等。这对台积电而言极其重要,因为智能手机的需求在减弱,而台积电需要这些客户来抵消移动芯片低迷订单带来的负面影响。
C.C. Wei说,“我们已经可以大规模投产7nm了”。
台积电的CLN7FF制程将依靠DUV光蚀刻和准分子激光技术,这意味着台积电可以通过现有的产品线就能生产7nm的芯片。与此同时,DUV的技术将会给台积电带来一些负面影响:增加了设计和生产的成本,拖慢了产品的周期。
明年,台积电将会升级相关的生产技术:部分采用EUV。相应的第二代7nm制程(CLN7FF)可以将面积再减小20%,功耗再减小10%。将来,第三代7nm制程将会基于EUV,但是台积电无法给出参数提升具体的数值。
据悉,台积电会在2019年中开始大规模投产基于EUV技术的7nm制程芯片。Wei说,公司使用EUV的结果让人振奋,产品良率得到了有效的提升。
$台积电(TSM)$ $苹果(AAPL)$
精彩评论
👉台积电发言人暨财务长何丽梅指出,预计应用在 7 奈米加强版的极紫外线 EUV 技术,目前测试状况一切按照计划进行。2019 年开始采用 EUV 的 7 奈米加强版制程之际,将可依照计划进行没有问题。另外,2020 年启用 5 奈米制程也会一样顺利。