大音希声8
2021-06-20
这是真的高科技产品
美国应用材料展示全新装备 七工艺合一
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{"i18n":{"language":"zh_CN"},"detailType":1,"isChannel":false,"data":{"magic":2,"id":165239664,"tweetId":"165239664","gmtCreate":1624145403858,"gmtModify":1624145403858,"author":{"id":3574798341342051,"authorId":3574798341342051,"authorIdStr":"3574798341342051","name":"大音希声8","avatar":"https://static.tigerbbs.com/e03906f4c67afcca5e2d24afc06448e4","vip":1,"userType":1,"introduction":"","boolIsFan":false,"boolIsHead":false,"crmLevel":1,"crmLevelSwitch":0,"individualDisplayBadges":[],"fanSize":0,"starInvestorFlag":false},"themes":[],"images":[],"coverImages":[],"extraTitle":"","html":"<html><head></head><body><p>这是真的高科技产品</p></body></html>","htmlText":"<html><head></head><body><p>这是真的高科技产品</p></body></html>","text":"这是真的高科技产品","highlighted":1,"essential":1,"paper":1,"likeSize":0,"commentSize":0,"repostSize":0,"favoriteSize":0,"link":"https://laohu8.com/post/165239664","repostId":2144706306,"repostType":2,"repost":{"id":"2144706306","pubTimestamp":1624136520,"share":"https://www.laohu8.com/m/news/2144706306?lang=&edition=full","pubTime":"2021-06-20 05:02","market":"hk","language":"zh","title":"美国应用材料展示全新装备 七工艺合一","url":"https://stock-news.laohu8.com/highlight/detail?id=2144706306","media":"淼淼小鬼","summary":"美国半导体设备公司应用材料日前展示了一款全新的设备,能将7种工艺整合在一起,可用于3nm工艺。芯研所6月20日消息,在半导体工艺延伸到7nm之后,光刻机越来越重要,EUV光刻机现在只有荷兰ASML能生产。","content":"<html><body><div>\n<div itemprop=\"articleBody\">\n<img src=\"https://article-fd.zol-img.com.cn/t_s640x2000/g6/M00/0D/0C/ChMkKWDN6COIcrJaAAClq09kPbUAAQ4DQHe35QAAKXD496.jpg\"/><div>\n<div><div></div></div>\n</div>\n<blockquote><p>美国半导体设备公司<a href=\"https://laohu8.com/S/AMAT\">应用材料</a>日前展示了一款全新的设备,能将7种工艺整合在一起,可用于3nm工艺。</p></blockquote><p>芯研所6月20日消息,在半导体工艺延伸到7nm之后,光刻机越来越重要,EUV光刻机现在只有荷兰ASML能生产。美国半导体设备公司应用材料日前展示了一款全新的设备,能将7种工艺整合在一起,可用于3nm工艺。</p><p><span></span><img height=\"338\" src=\"https://article-fd.zol-img.com.cn/t_s640x2000/g6/M00/0D/0C/ChMkKWDN6COIcrJaAAClq09kPbUAAQ4DQHe35QAAKXD496.jpg\" width=\"600\"/><strong>芯研所采编</strong></p><p>美国应用材料公司是全球第一大半导体设备公司,他们的PVD、CVD沉积设备等是半导体制造中不可少的,也是限制<a href=\"https://laohu8.com/S/TSM\">台积电</a>、<a href=\"https://laohu8.com/S/SMSN.UK\">三星</a>、Intel等公司提升工艺的关键。</p><p>他们现在研发的设备名为Endura Copper Barrier Seed IMS,是用于逻辑芯片布线的,随着晶体管的缩小,芯片布线也是个难题,而且导线越小电阻越大,从7nm微缩到3nm的话,电阻就会增加10倍,这会带来更高的功耗,让工艺微缩失去意义。</p><p>现在这套设备可以在真空环境下,将ALD、PVD、CVD、铜回流、表面处理、界面工程和计量等七种工艺处理集成到一个系统中完成,不仅简化了操作,同时还降低了50%的电阻,芯片的性能及能效更高。</p><p>本文属于原创文章,如若转载,请注明来源:美国应用材料展示全新装备 七工艺合一https://diy.zol.com.cn/770/7709144.html</p><div zpv-events-inview=\"article-cont-bottom-viewport\"></div>\n<div>纠错与问题建议<span>标签:</span>芯头条</div><div>\n<span itemprop=\"url\">https://diy.zol.com.cn/770/7709144.html</span>\n<span itemprop=\"indexUrl\">diy.zol.com.cn</span>\n<span itemprop=\"isOriginal\">true</span>\n<span itemprop=\"author\"><a href=\"https://laohu8.com/S/000931\">中关村</a>在线</span>\n<span itemprop=\"isBasedOnUrl\">https://diy.zol.com.cn/770/7709144.html</span>\n<span itemprop=\"genre\">report</span>\n<span itemprop=\"wordCount\">818</span>\n<span itemprop=\"description\">美国半导体设备公司应用材料日前展示了一款全新的设备,能将7种工艺整合在一起,可用于3nm工艺。芯研所6月20日消息,在半导体工艺延伸到7nm之后,光刻机越来越重要,EUV光刻机现在只有荷兰ASML能生产。美国半导体设备公司应用材料日前展示了一款全新的设备,能将7种工艺...</span>\n</div></div>\n</div></body></html>","source":"zol_stock","collect":0,"html":"<!DOCTYPE html>\n<html>\n<head>\n<meta http-equiv=\"Content-Type\" content=\"text/html; charset=utf-8\" />\n<meta name=\"viewport\" content=\"width=device-width,initial-scale=1.0,minimum-scale=1.0,maximum-scale=1.0,user-scalable=no\"/>\n<meta name=\"format-detection\" content=\"telephone=no,email=no,address=no\" />\n<title>美国应用材料展示全新装备 七工艺合一</title>\n<style type=\"text/css\">\na,abbr,acronym,address,applet,article,aside,audio,b,big,blockquote,body,canvas,caption,center,cite,code,dd,del,details,dfn,div,dl,dt,\nem,embed,fieldset,figcaption,figure,footer,form,h1,h2,h3,h4,h5,h6,header,hgroup,html,i,iframe,img,ins,kbd,label,legend,li,mark,menu,nav,\nobject,ol,output,p,pre,q,ruby,s,samp,section,small,span,strike,strong,sub,summary,sup,table,tbody,td,tfoot,th,thead,time,tr,tt,u,ul,var,video{ font:inherit;margin:0;padding:0;vertical-align:baseline;border:0 }\nbody{ font-size:16px; line-height:1.5; color:#999; background:transparent; }\n.wrapper{ overflow:hidden;word-break:break-all;padding:10px; }\nh1,h2{ font-weight:normal; line-height:1.35; margin-bottom:.6em; }\nh3,h4,h5,h6{ line-height:1.35; margin-bottom:1em; }\nh1{ font-size:24px; }\nh2{ font-size:20px; }\nh3{ font-size:18px; }\nh4{ font-size:16px; }\nh5{ font-size:14px; }\nh6{ font-size:12px; }\np,ul,ol,blockquote,dl,table{ margin:1.2em 0; }\nul,ol{ margin-left:2em; }\nul{ list-style:disc; }\nol{ list-style:decimal; }\nli,li p{ margin:10px 0;}\nimg{ max-width:100%;display:block;margin:0 auto 1em; }\nblockquote{ color:#B5B2B1; border-left:3px solid #aaa; padding:1em; }\nstrong,b{font-weight:bold;}\nem,i{font-style:italic;}\ntable{ width:100%;border-collapse:collapse;border-spacing:1px;margin:1em 0;font-size:.9em; }\nth,td{ padding:5px;text-align:left;border:1px solid #aaa; }\nth{ font-weight:bold;background:#5d5d5d; }\n.symbol-link{font-weight:bold;}\n/* header{ border-bottom:1px solid #494756; } */\n.title{ margin:0 0 8px;line-height:1.3;color:#ddd; }\n.meta {color:#5e5c6d;font-size:13px;margin:0 0 .5em; }\na{text-decoration:none; color:#2a4b87;}\n.meta .head { display: inline-block; overflow: hidden}\n.head .h-thumb { width: 30px; height: 30px; margin: 0; padding: 0; border-radius: 50%; float: left;}\n.head .h-content { margin: 0; padding: 0 0 0 9px; float: left;}\n.head .h-name {font-size: 13px; color: #eee; margin: 0;}\n.head .h-time {font-size: 11px; color: #7E829C; margin: 0;line-height: 11px;}\n.small {font-size: 12.5px; display: inline-block; transform: scale(0.9); -webkit-transform: scale(0.9); transform-origin: left; -webkit-transform-origin: left;}\n.smaller {font-size: 12.5px; display: inline-block; transform: scale(0.8); -webkit-transform: scale(0.8); transform-origin: left; -webkit-transform-origin: left;}\n.bt-text {font-size: 12px;margin: 1.5em 0 0 0}\n.bt-text p {margin: 0}\n</style>\n</head>\n<body>\n<div class=\"wrapper\">\n<header>\n<h2 class=\"title\">\n美国应用材料展示全新装备 七工艺合一\n</h2>\n\n<h4 class=\"meta\">\n\n\n2021-06-20 05:02 北京时间 <a href=http://diy.zol.com.cn/770/7709144.html><strong>淼淼小鬼</strong></a>\n\n\n</h4>\n\n</header>\n<article>\n<div>\n<p>美国半导体设备公司应用材料日前展示了一款全新的设备,能将7种工艺整合在一起,可用于3nm工艺。芯研所6月20日消息,在半导体工艺延伸到7nm之后,光刻机越来越重要,EUV光刻机现在只有荷兰ASML能生产。美国半导体设备公司应用材料日前展示了一款全新的设备,能将7种工艺整合在一起,可用于3nm工艺。芯研所采编美国应用材料公司是全球第一大半导体设备公司,他们的PVD、CVD沉积设备等是半导体制造中不可...</p>\n\n<a href=\"http://diy.zol.com.cn/770/7709144.html\">Web Link</a>\n\n</div>\n\n\n</article>\n</div>\n</body>\n</html>\n","type":0,"thumbnail":"https://static.tigerbbs.com/e9352eeb054da879ea3921619a5a8a9c","relate_stocks":{"AMAT":"应用材料"},"source_url":"http://diy.zol.com.cn/770/7709144.html","is_english":false,"share_image_url":"https://static.laohu8.com/e9f99090a1c2ed51c021029395664489","article_id":"2144706306","content_text":"美国半导体设备公司应用材料日前展示了一款全新的设备,能将7种工艺整合在一起,可用于3nm工艺。芯研所6月20日消息,在半导体工艺延伸到7nm之后,光刻机越来越重要,EUV光刻机现在只有荷兰ASML能生产。美国半导体设备公司应用材料日前展示了一款全新的设备,能将7种工艺整合在一起,可用于3nm工艺。芯研所采编美国应用材料公司是全球第一大半导体设备公司,他们的PVD、CVD沉积设备等是半导体制造中不可少的,也是限制台积电、三星、Intel等公司提升工艺的关键。他们现在研发的设备名为Endura Copper Barrier Seed IMS,是用于逻辑芯片布线的,随着晶体管的缩小,芯片布线也是个难题,而且导线越小电阻越大,从7nm微缩到3nm的话,电阻就会增加10倍,这会带来更高的功耗,让工艺微缩失去意义。现在这套设备可以在真空环境下,将ALD、PVD、CVD、铜回流、表面处理、界面工程和计量等七种工艺处理集成到一个系统中完成,不仅简化了操作,同时还降低了50%的电阻,芯片的性能及能效更高。本文属于原创文章,如若转载,请注明来源:美国应用材料展示全新装备 七工艺合一https://diy.zol.com.cn/770/7709144.html\n纠错与问题建议标签:芯头条\nhttps://diy.zol.com.cn/770/7709144.html\ndiy.zol.com.cn\ntrue\n中关村在线\nhttps://diy.zol.com.cn/770/7709144.html\nreport\n818\n美国半导体设备公司应用材料日前展示了一款全新的设备,能将7种工艺整合在一起,可用于3nm工艺。芯研所6月20日消息,在半导体工艺延伸到7nm之后,光刻机越来越重要,EUV光刻机现在只有荷兰ASML能生产。美国半导体设备公司应用材料日前展示了一款全新的设备,能将7种工艺...","news_type":1},"isVote":1,"tweetType":1,"viewCount":1376,"commentLimit":10,"likeStatus":false,"favoriteStatus":false,"reportStatus":false,"symbols":[],"verified":2,"subType":0,"readableState":1,"langContent":"CN","currentLanguage":"CN","warmUpFlag":false,"orderFlag":false,"shareable":true,"causeOfNotShareable":"","featuresForAnalytics":[],"commentAndTweetFlag":false,"upFlag":false,"length":18,"xxTargetLangEnum":"ZH_CN"},"commentList":[],"isCommentEnd":true,"isTiger":false,"isWeiXinMini":false,"url":"/m/post/165239664"}
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