美国应用材料展示全新装备七工艺合一

淼淼小鬼2021-06-20

美国半导体设备公司应用材料日前展示了一款全新的设备，能将7种工艺整合在一起，可用于3nm工艺。芯研所6月20日消息，在半导体工艺延伸到7nm之后，光刻机越来越重要，EUV光刻机现在只有荷兰ASML能生产。美国半导体设备公司应用材料日前展示了一款全新的设备，能将7种工艺整合在一起，可用于3nm工艺。芯研所采编美国应用材料公司是全球第一大半导体设备公司，他们的PVD、CVD沉积设备等是半导体制造中不可...

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大音希声8
2021-06-20
大音希声8
这是真的高科技产品

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