光刻机，其实可以简单理解为「超超超超…超高」精度的照相机，把设计好的电路投影在硅片上。
与此同时，荷兰光刻机巨头阿斯麦ASML，占据了63%的市场份额，产品集中在中高端的极紫外光刻EUV和深紫外光刻DUV上。$阿斯麦(ASML)$
然而在2004年前，尼康是当之无愧的带头大哥，不仅让阿斯麦稳坐**丝之位，甚至让美国这个光刻机技术鼻祖逐步退出了半导体用光刻机的市场。
彼时傲娇的尼康一直将光刻机作为自己的核心产品，也是让日本企业引以为傲的「民族之光」，甚至当年能到尼康从事光刻机的研发一度成为众多日本大好青年的愿景。
再看ASML的基础并不好。从1984年诞生后的20年，ASML就一直是一个谜一样的存在，没有什么人会觉得ASML能够有什么未来，甚至包括他们自己。
早期ASML还叫做ASM，生存无望只能四处认干爹，最终只有飞利浦动了恻隐之心，在总部大厦旁边垃圾桶旁的空地上给ASML弄了几个简易厂房，房地产工地上的那种。最骚的是，飞利浦也没打算给什么钱，ASML除了要饭没干过，基本上上门推销、蹲点、抢单反正你能想象到的销售手段ASML全都用过，能活20年全靠日积月累出来的「销售手艺」。
魔幻的是，这点「手艺」居然成为了日后ASML登顶的关键。
苦苦支撑20年，ASML终于等待了他们第一个贵人——台积电鬼才林本坚，一个可以比肩张忠谋的人物。如果说张忠谋缔造了台积电的前20年，林本坚就为台积电的后二十年挣下了巨大的家当。
林本坚1942年出生于越南，中国台湾人，祖籍广东潮汕。林本坚1970年获得美国俄亥俄州立大学电机工程博士学位，2008年当选美国国家工程学院院士。在加入台积电之前，林本坚在IBM从事成像技术的研发长达22年，是当时世界无二的顶级微影专家。
2000年，林本坚在当时台积电研发长蒋尚义的邀请下加入台积电，开启了真正「彪悍的人生」。
在IBM最后几年，林本坚其实已经看到了傲慢的IBM在微影领域的大厦将倾。他希望IBM能够给予他当时微影部门所研发的X光光刻技术1/10的经费，用来「做点东西」，然而IBM因为其华人的身份，并不打算买账。
后来林本坚回忆说：「我判断到65纳米(干式光刻)阶段时，让我再往前看三代的话，我就已经看不到了。」
于是在众多人陷入X光光刻技术无法自拔的时候，林本坚义无反顾地投入了浸润式光刻技术的研究中。
终于在2002年，已经加入台积电的他研究出以水作为介质的193纳米浸润式光刻技术。也就是在2002年，冥冥之中宣告了过往干式光刻机的死刑。
浸润式光刻技术让摩尔定律继续延伸，后来台积电也因此领先竞争对手超过5年。
然而任何一项颠覆式新技术的出现，总会受到来自于传统势力巨大的阻力。林本坚的浸润式光刻，几乎被尼康、佳能、IBM等所有巨头封杀，尼康甚至向台积电施压，要求雪藏林本坚。
巨头的陨落，总是如出一辙。当年柯达最早生产出来了数码照相机，但是柯达却因为恐惧数码相机威胁到自己的胶片业务，做出决定——一定要藏好，不能让别人知道。
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