韩国媒体消息，三星电子（Samsung Electronics）削减了极紫外光（EUV）微影采购计划，跟荷兰半导体设备业龙头ASML（ASML Holding N.V.）合作研发中心进度卡关。
据韩媒Business Korea 8月20日引述未具名消息人士报导，2023年12月12日当天，韩国总统尹锡悦（Yoon Suk Yeol）访问ASML荷兰总部，陪同的人士包括荷兰国王Willem-Alexander、三星会长李在熔（Lee Jae-yong）、SK集团董事长崔泰源（Chey Tae-won）和ASML执行长Peter Wennink。三星、ASML也当场签定备忘录（MOU），准备在韩国都会区共同兴建EUV研发中心。然而，过了短短半年，两家公司的合作案传出生变。
据报导，三星7月稍早在会议上时通知ASML，决定削减次世代High-NA EUV（高数值孔径极紫外光）微影设备的采购量；两家公司应该很快就会着手修改相关合约。
三星原本规划，未来十年采购的ASML次世代机台（分别是“EXE:5200”、“EXE:5400”及“EXE:5600”）将超过三台。然而，三星如今只决定导入EXE:5200，至于是否导入后续版本则会重新考虑。三星是在任命全永铉（Young Hyun Jun）接任装置解决方案（DS）事业群负责人，重新检视进行中的专案和投资计划后，做出了上述决定。
业界消息人士表示，研发中心的京畿道华城市（Hwaseong）土地采购案及设计与核准程序原本已在进行中，但由于三星决定削减设备采购量，相关程序已完全停摆。ASML、三星合作的研发中心是否要更改地点，甚或直接取消，将在未来讨论后决定。
不过，一名三星高层依旧表示，导入High-NA EUV微影设备的规划没有变动，两家公司合作的研发中心也会在最合适的地点设立。
一位业界人士提到：如果两家公司能遵守原订合约，三星不仅能比竞争对手更早引进先进EUV设备，还有机会近距离观察先进EUV技术的开发过程。如果计划有变，恐丧失这些机会。
来源：科技新报
精彩评论