3月6日,兴业证券发布光刻机行业深度报告。文中写出光刻工艺是集成电路制造的关键步骤,光刻机是半导体工业皇冠上的明珠。光刻工艺是对光刻胶进行曝光和显影形成三维光刻胶图形的过程,直接决定了集成电路制造的微细化水平,集成电路整个制造过程中,光刻步骤至少要重复10次,一般要重复25-40次。光刻分辨率即光刻系统能清晰投影最小图像的能力。决定了光刻机能够被应用于的工艺节点水平。根据瑞利准则,通过缩短光源波长...
网页链接3月6日,兴业证券发布光刻机行业深度报告。文中写出光刻工艺是集成电路制造的关键步骤,光刻机是半导体工业皇冠上的明珠。光刻工艺是对光刻胶进行曝光和显影形成三维光刻胶图形的过程,直接决定了集成电路制造的微细化水平,集成电路整个制造过程中,光刻步骤至少要重复10次,一般要重复25-40次。光刻分辨率即光刻系统能清晰投影最小图像的能力。决定了光刻机能够被应用于的工艺节点水平。根据瑞利准则,通过缩短光源波长...
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