台积电(TSM)2纳米制程技术性能跃升15% 功耗降低30%

金吾财讯 | 在旧金山举行的IEEE国际电子器件会议 (IEDM) 上，全球晶圆代工巨头台积电(TSM)公布了其备受瞩目的2纳米（N2）制程技术的更多细节。据介绍，相较于前代制程，N2制程在性能上提升了15%，功耗降低了高达30%，能效显著提升。此外，得益于环绕式栅极（GAA）纳米片晶体管和N2 NanoFlex技术的应用，晶体管密度也提高了1.15倍。N2 NanoFlex技术允许制造商在最小的面积内集成不同的逻辑单元，进一步优化了制程的性能。据悉，N2制程晶圆的价格将比3纳米制程高出10%以上。