IT之家 7 月 23 日消息,韩媒 The Elec 本月 17 日报道称,三星电子预计于明年推出的 2nm 先进制程将较现有 3nm 工艺增加 30% 以上的 EUV 曝光层数,达“20~30 的中后半段”。韩媒在报道中提到,根据产品性质的不同,即使同一节点曝光层数量也并非完全固定。不过总体来说,三星电子 3nm 工艺的平均 EUV 曝光层数量仅为 20 层;而在预计于 2027 年量产的 ...
网页链接IT之家 7 月 23 日消息,韩媒 The Elec 本月 17 日报道称,三星电子预计于明年推出的 2nm 先进制程将较现有 3nm 工艺增加 30% 以上的 EUV 曝光层数,达“20~30 的中后半段”。韩媒在报道中提到,根据产品性质的不同,即使同一节点曝光层数量也并非完全固定。不过总体来说,三星电子 3nm 工艺的平均 EUV 曝光层数量仅为 20 层;而在预计于 2027 年量产的 ...
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