证券之星消息,根据企查查数据显示中微公司(688012)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种用于超深宽比刻蚀的等离子反应器及其刻蚀方法”,专利申请号为CN201910107649.6,授权日为2024年7月5日。
专利摘要:本发明公开了一种用于超深宽比刻蚀的等离子反应器及其刻蚀方法,包括:反应腔,所述反应腔内形成反应空间;反应空间底部包括一个基座,用于支撑处理基片;反应腔内顶部包括一气体喷淋头;第一射频电源输出具有第一频率的射频功率到基座或气体喷淋头,以形成并维持反应腔内的等离子体;第二射频电源输出具有第二频率的射频功率到基座,以控制入射到基片的离子能量;所述第一频率大于等于4MHz,第二频率大于等于10KHz小于等于300KHz。
今年以来中微公司新获得专利授权76个,较去年同期增加了2.7%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了8.17亿元,同比增34.91%。
数据来源:企查查
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