中微公司获得发明专利授权：“一种用于超深宽比刻蚀的等离子反应器及其刻蚀方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种用于超深宽比刻蚀的等离子反应器及其刻蚀方法”，专利申请号为CN201910107649.6，授权日为2024年7月5日。

专利摘要：本发明公开了一种用于超深宽比刻蚀的等离子反应器及其刻蚀方法，包括：反应腔，所述反应腔内形成反应空间；反应空间底部包括一个基座，用于支撑处理基片；反应腔内顶部包括一气体喷淋头；第一射频电源输出具有第一频率的射频功率到基座或气体喷淋头，以形成并维持反应腔内的等离子体；第二射频电源输出具有第二频率的射频功率到基座，以控制入射到基片的离子能量；所述第一频率大于等于4MHz，第二频率大于等于10KHz小于等于300KHz。

今年以来中微公司新获得专利授权76个，较去年同期增加了2.7%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了8.17亿元，同比增34.91%。

数据来源：企查查

以上内容由证券之星根据公开信息整理，由算法生成（网信算备310104345710301240019号），与本站立场无关，如数据存在问题请联系我们。本文为数据整理，不对您构成任何投资建议，投资有风险，请谨慎决策。