中微公司申请一种等离子体边缘刻蚀设备专利，提高一次装配的精确度

金融界07-01

金融界2024年6月25日消息，天眼查知识产权信息显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“一种等离子体边缘刻蚀设备“，公开号CN202211659220.6，申请日期为2022年12月。专利摘要显示，本发明涉及一种等离子体边缘刻蚀设备，包括等离子体处理腔室，位于所述等离子体处理腔室内且相对设置的上电极组件和下电极组件；升降装置，用于使所述上电极组件上下运动；所述上电极组件包括等离子...

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