①支持0.2nm量产!阿斯麦2030年推出Hyper NA EUV光刻机荷兰光刻机巨头阿斯麦近日宣布,其最新研发的Hyper NA EUV光刻机已具备量产0.2nm工艺的能力,这一里程碑式的进展将再次引领半导体产业迈入新高度。阿斯麦第一代Low NA EUV光刻机孔径数值只有0.33,对应产品NXE系列 ,预计到2025年可以量产2nm,再往后就得加入多重曝光, 预计到2027年能实现1.4nm的...
网页链接①支持0.2nm量产!阿斯麦2030年推出Hyper NA EUV光刻机荷兰光刻机巨头阿斯麦近日宣布,其最新研发的Hyper NA EUV光刻机已具备量产0.2nm工艺的能力,这一里程碑式的进展将再次引领半导体产业迈入新高度。阿斯麦第一代Low NA EUV光刻机孔径数值只有0.33,对应产品NXE系列 ,预计到2025年可以量产2nm,再往后就得加入多重曝光, 预计到2027年能实现1.4nm的...
网页链接
精彩评论