5月30日消息,光刻机大厂ASML在imec(比利时微电子研究中心)的ITF World 2024会议上宣布,其首款High-NA EUV光刻机已创下新的晶圆制造速度记录,超过了两个月前创下的记录。根据ASML前总裁兼首席技术官、现任公司顾问的Martin van den Brink的说法,新的High NA EUV光刻机晶圆生产速度达到了每小时400至500片晶圆,是当前标准EUV每小时200...
网页链接5月30日消息,光刻机大厂ASML在imec(比利时微电子研究中心)的ITF World 2024会议上宣布,其首款High-NA EUV光刻机已创下新的晶圆制造速度记录,超过了两个月前创下的记录。根据ASML前总裁兼首席技术官、现任公司顾问的Martin van den Brink的说法,新的High NA EUV光刻机晶圆生产速度达到了每小时400至500片晶圆,是当前标准EUV每小时200...
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