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在创新技术的支持下,屡次被语言将要寿终正寝的摩尔定律已经被“续命”好长一段时间了。而根据ASML 的最新分享报告显示,其最新的 EUV 光刻机可以在未来 10 年左右的时间内帮助制造商在硅基板上塞入越来越多的晶体管。根据ASML预测,在2030年,将会有集成3000亿晶体管的芯片出现。
ASML报告指出,从 2023 年开始,ASML计划交付第一批下一代 EUV 设备,该设备将使 EUV 数值孔径 (NA) 高于当前机器的能力,从 0.33 NA 到 0.55 NA。这将使芯片制造商能够开发出远远超过当前预期的 2 纳米阈值的工艺节点,并且在对高级晶圆层使用单次曝光 EUV 工艺时还可以节省一些成本。
这些新机器中的第一台将是原型机,将在整个 2022 年进行测试。而英特尔将成为首个吃螃蟹的人,它希望最早在 2023 年将其用于量产。这家科技巨头最近开始了一个多年的过程,以重新获得工艺和封装技术的领先地位,而高数值孔径 EUV 工具是该计划的关键部分。事实上,如果英特尔的IDM 2.0 计划想获得成功的机会,它就必须需要从 ASML 那里获得所有的帮助。
台积电也有兴趣获得尽可能多的这种下一代光刻设备。这家台湾公司目前占该行业 EUV 设备安装基础和晶圆产量的一半,他们计划通过两个最先进的2 纳米 GigaFab扩大产能。具有讽刺意味的是,台积电曾经是一个不相信 EUV 的人,但今天它是 ASML 的最大客户,这要归功于 Apple坚持认为 EUV 是实现更小、更强大、更节能芯片的必须设备。
在本文中,我们将分享ASML的分享报告,以求对大家有帮助。
报告一:ASML对EUV未来的看法
报告二:ASML对DUV未来的看法
报告三:ASML对技术未来的看法
报告四:ASML的公司战略
报告五:ASML对业务线的看法
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