消息称中芯国际正寻求与阿斯麦就EUV光刻设备进行谈判

TechWeb.com.cn2020-12-19

12月19日消息,据国外媒体报道,晶圆代工企业中芯国际(SMIC)正在努力获得关键的极紫外(EUV)光刻设备,以开发7nm以下制程技术。业内观察人士表示,在新任副董事长蒋尚义的帮助下,中芯国际正寻求与荷兰半导体设备公司阿斯麦(ASML)就EUV光刻设备进行谈判。据报道,中芯国际计划使用EUV光刻机,生产基于7nm以下制程技术的芯片产品。最近,有媒体报道,该公司已经从20nm工艺过渡到3nm工艺,...

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