拓荆科技股份有限公司的主营业务是高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司的主要产品是等离子体增强化学气相沉积设备（PECVD设备）、原子层沉积设备（ALD设备）、次常压化学气相沉积设备（SACVD设备）、高密度等离子体化学气相沉积设备（HDPCVD设备）、流动性化学气相沉积设备（FlowableCVD设备）。公司通过自主研发，形成了一系列独创性的设计，构建了完善的知识产权体系并取得了多项自主知识产权。截至报告期末，公司累计申请专利1783项（含PCT），获得授权专利581项，其中发明专利294项。公司先后承担了多项国家重大专项/课题，研发并推出的基于不同平台类型且支持不同工艺型号的PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD和FlowableCVD薄膜系列设备均已在客户端实现量产，在半导体薄膜沉积设备领域积累了多项研发及产业化的核心技术，构建了具有设备种类、工艺型号外延开发能力的研发平台，性能达到了国际同类设备水平，并持续迭代升级产品性能，快速响应客户先进技术需求。